產品詳情
光纖光柵刻寫平臺定制服務
光纖光柵刻寫平臺定制服務
產品詳情

技術原理:

本光纖光柵刻寫平臺采用的技術主要包括:紫外準分子激光器、載氫增敏技術、相位掩模板干涉成柵技術、幅度掩模板變跡切趾技術以及拉力波長調節技術。

其刻寫光路如1所示,準分子激光器輸出的激光經過可調光闌、一對柱面鏡和小孔光闌組成的空間濾波及整形模塊后形成一個長方形均勻光斑。該光斑再經過幅度掩模板后形成與幅度模板形狀一致的光斑,并經過柱透鏡聚焦后經過相位掩模板,相位掩模板的±1級衍射形成干涉條紋。當該干涉條紋輻照具有光敏性的光纖一段時間后,就可以在光纖中形成不同強度的光纖光柵,最終光纖光柵的類型和參數將決定于光纖和干涉條紋的相對位置關系、相位掩模板的周期、輻照時間等因素。相位掩模板干涉成柵的原理如2所示。

圖1.png

圖1 光纖光柵刻寫平臺光路原理圖

圖2.png

圖2相位掩模板干涉成柵原理示意圖


模塊構成:

  本平臺根據模塊-集成-自動化的設計思想,根據不同的功能定位將光纖光柵刻寫平臺分成了如3所示的模塊化系統,這樣不僅可以將散亂的光學元件進行有效的安裝,還可以方便地進行替換、維護和保養。既適用于固定方案的批量生產,也有利于需要經常進行不同方案切換的科研研發。

圖3.png

圖3 光纖光柵刻寫平臺構成模塊


工作流程:

圖4.png

圖4 光纖光柵刻寫平臺工作流程


技術參數:



項目

參數

數值

備注

一、

光纖載氫增敏系統

最大氣壓


可選

可選

管道長度

管道直徑

.1、

激光器模塊

工作波長

248 nm

可選

最大脈沖能量

100 mJ

最高重復頻率

100 Hz

.2、

紫外激光光路模塊

激光損傷閾值



可按整形、準直、變跡、聚焦

4個功能選配

可選

光束發散角

光斑均勻性

焦距

光斑最大寬度

變跡模板函數形式

.3、

相位掩模板調節模塊

調節維度


自動、手動

可選

可按照要求設計相位板夾具

可選

調節行程

可切換相位板數量

可適應相位板尺寸

.4、光纖夾持模塊

調節維度


自動、手動

可選

按精度要求不同,可提供不同方案


可選

調節行程

最大拉力

拉力控制精度

光柵波長控制精度

.5、在線監測模塊

ASE光源

1020  nm ~ 1200 nm

1520  nm ~ 1570 nm

及其它定制波段

可選

光譜儀

推薦:AQ6370C、AQ6375

國內外廠商均可選

.6、自動化控制模塊

標準工控機


可選

三、光柵后處理系統

退火溫度范圍

100 oC-1000 oC可調

可選

重涂覆及封裝

見模塊詳細解釋部分

四、自動化控制軟件

見模塊詳細解釋部分

可選

五、業務管理軟件

可進行光柵刻寫過程中的物料、生產過程、客戶等集成化管理

可選

六、特種光柵刻寫工藝

包含詳細的高功率、啁啾、保偏、傾斜等特種光柵的刻寫工藝文件及培訓服務

可選



平臺可刻寫光纖光柵類型:




可刻寫的光纖類型

l    SMF-28、HI 1060、PM 980、PM 1550單模及單模保偏光纖;

l    10/125、10/130、12/250、15/130、20/400、25/400等雙包層及保偏光纖

l    聚酰亞胺光纖

l    部分稀土離子摻雜光纖

可刻寫的光柵波段

l    900 nm ~ 2000 nm 全波段,依賴于相位掩模板的配置情況

l    特別是1 μm、1.5 μm波段非常成熟




可刻寫的光柵類型

l    普通均勻光纖光柵

l    啁啾光纖光柵

l    變跡光纖光柵

l    相移光纖光柵

l    超結構光纖光柵(光纖光柵FP、取樣光纖光柵)

l    傾斜(閃耀)光纖光柵

l    長周期光纖光柵


平臺刻寫光纖光柵產品的主要參數及應用范圍:


應用領域

主要參數

應用方向


光纖激光器領域

波長對準精度可達到0.01nm,

反射率可以在5% ~  99.99%之間可調

諧振腔反射鏡

色散可以小于1 ps2

脈沖壓縮器

光纖通信領域

色散可以大于5000 ps2

色散補償器

帶寬可以低至50 MHz、寬至數十nm

光纖濾波器

光纖傳感領域


/多參數傳感


準分布式傳感


久久99精品国产麻豆婷婷| 国偷自产AV一区二区三区| 中文字幕人妻色偷偷久久|