產品詳情
全自動光纖光柵刻寫平臺
全自動光纖光柵刻寫平臺
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  技術原理:

本光纖光柵刻寫平臺采用的技術主要包括:紫外準分子激光器、載氫增敏技術、相位掩模板干涉成柵技術、幅度掩模板變跡切趾技術以及拉力波長調節技術。

  其刻寫光路為準分子激光器輸出的激光經過可調光闌、一對柱面鏡和小孔光闌組成的空間濾波及整形模塊后形成一個長方形均勻光斑。該光斑再經過幅度掩模板后形成與幅度模板形狀一致的光斑,并經過柱透鏡聚焦后經過相位掩模板,相位掩模板的±1級衍射形成干涉條紋。當該干涉條紋輻照具有光敏性的光纖一段時間后,就可以在光纖中形成不同強度的光纖光柵,最終光纖光柵的類型和參數將決定于光纖和干涉條紋的相對位置關系、相位掩模板的周期、輻照時間等因素。

    

    型號:JKWP-101B

    特點:全自動化光纖光柵刻寫,適合企業光纖光柵的大批量生產需求或院所的產業化需求

    平臺組成一覽:

    系統名稱
    功能描述和說明
    平臺基座
    能避免環境因素對平臺穩定程度的影響
    載氫光學增敏系統
    提供安全的載氫增敏解決方案
    光源系統
    作為光柵刻寫的UV光源,提供穩定的激光輸出
    紫外光路系統
    刻寫平臺的主要功能模塊
    高精度自動化光纖夾持模塊
    提供光纖大壓力無損光纖夾持,提供光纖電動調節的配套解決方案
    光纖電動調節系統
    提供拉力可編程的自動化施加
    光柵測試系統
    分別提供能對1um;1.5um;2um波段的光纖光柵進行測試的系統
    自動化光束幅度可編程調節控制模塊
    提供光束幅度調節解決方案
    自動快速可編程相位板切換模塊
    提供相位板快速自動化切換解決方案
    自動化一體邏輯控制系統
    提供整個自動化刻寫系統的一體化邏輯控制解決方案
    退火消氫系統
    提供退火消氫解決方案
    光柵涂覆系統
    提供柵區涂覆解決方案
    封裝固化系統
    提供高效率金屬封裝完成方法
    刻寫管理系統
    提供光纖光柵刻寫平臺的統一管理軟件
    其他可選配件
    提供刻寫平臺需要的其他配件
    培訓指導服務
    提供對平臺的使用培訓

    注:以上規格為標準配置,可根據客戶具體需求,提供定制產品。


    具體使用簡介:

    本平臺選用國產精密光學隔振平臺作為基礎,避免環境因素對平臺穩定程度的影響; 由在光纖光柵領域深耕十余年的光學工程專家設計光路系統,與南京聚科光電技術有限公司自主構建的自動化一體系統完美結合,從而實現自動化特種光纖光柵刻寫。

    本平臺為了能實現高速穩定特種光纖光柵一致化刻寫,提供了由工程學專家設計的八個載氫模塊,能提供以十五天為周期的載氫循環,足夠全速生產。

    而在其他配件方面,我們為您選配了由國際頂尖激光器廠商提供的準分子激光器;美國vytran公司提供的PTR-200-MRC系列光纖涂覆機和LDC-400光纖切割機;由日本藤倉公司提供的中斷光纖剝除儀、CT30光纖切割刀、FSM-80S光纖熔接機;由國內廠家提供的高溫烘箱;將組成光纖光柵的各種處理流程。

    對于每個平臺,我們都將提供一次1/人次培訓指導服務,培訓以實際學會光纖光柵刻寫平臺的使用為準。


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